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O: Oberflächenphysik

O 1: Metall/Metall-Homoepitaxie

O 1.1: Vortrag

Montag, 17. März 1997, 09:30–09:45, S 10

Abhängigkeit der Schichtrauhigkeit von der Depositionsmethode: Vergleich der Sputterdeposition mit der Gasphasendeposition von Pt auf Pt(111) — •M. Kalff, Th. Michely und G. Comsa — Forschungszentrum Jülich GmbH, Institut für Grenzflächenforschung und Vakuumphysik, D 52425 Jülich

Pt Filme sind auf einer Pt(111) Oberfläche durch physikalische Gasphasendeposition und ionenstrahlgestützte Sputterdeposition (IBD) deponiert und mittels STM untersucht worden. Bei gleicher Temperatur im Bereich von 300K bis 640K und gleicher Depositionsrate findet man abhängig von der Depositionsmethode stark unterschiedliche Schichtrauhigkeiten. Die Ursachen dafür werden diskutiert. Es wird der Einfluß der verschiedenen Energieverteilungen der auftreffenden Atome in den zwei Depositionsverfahren besprochen. Weiterhin wird der Einfluß des Nukleationsverhalten, der Stufenkantenrauhigkeit und der Strukturgröße in IBD und PVD diskutiert.