Münster 1997 – wissenschaftliches Programm

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O: Oberflächenphysik

O 15: Raster-Kraft-Mikroskopie II

O 15.1: Vortrag

Dienstag, 18. März 1997, 09:30–09:45, BOT

Ein Tieftemperatur-Rasterkraftmikroskop mit interferometrischer Auslenkungsdetektion — •R. Euler¹, U. Memmert¹ und U. Hartmann² — ¹Institut für Schicht- und Ionentechnik, KFA Jülich, D-52425 Jülich — ²FR Experimentalphysik, Universität des Saarlandes, D-66041 Saarbrücken

Ein Rasterkraftmikroskop mit interferometrischer Auslenkungsdetektion zur Verwendung bei Temperaturen zwischen 4.2 K und 300 K wurde aufgebaut und getestet. Zur Abbildung von Proben bei tiefen Temperaturen wird das Gerät in einem Badkryostaten mit flüssigem Stickstoff oder mit flüssigem Helium gekühlt. Durch die hohe Symmetrie des mechanischen Aufbaus wurde eine gute thermische Kompensation des Mikroskops erreicht. Eine verbleibende Dejustierung der optischen Detektion während der Abkühlung kann im Bereich von einigen Mikrometern nachjustiert werden. Das Gerät wurde durch die Abbildung von regelmässigen Teststrukturen und dünnen YBCO Filmen bei 300 K, 77 K, 7.8 K und 4.2 K getestet. Die Untersuchung von supraleitenden Proben bei tiefen Temperaturen in einem äußeren Magnetfeld von bis zu 3 T wird diskutiert.