Münster 1997 – wissenschaftliches Programm

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O: Oberflächenphysik

O 20: Optische Nahfeld-Mikroskopie

O 20.8: Vortrag

Dienstag, 18. März 1997, 17:45–18:00, BOT

Nichtlinear optische Mikroskopie zur Charakterisierung von
Grenzflächen — •Ch. Brillert, M. Wierschem, D. Essing, M. Flörsheimer und H. Fuchs — Physikalisches Institut, Universität Münster, Wilhelm-Klemm-Str.10, 48149 Münster

Das Verfahren basiert auf der grenzflächenspezifischen Erzeugung frequenzverdoppelten Lichts bei Einstrahlung hoher Laserintensitäten. Wir nutzen das harmonische Licht, um ein vergrößertes Abbild der Grenzflächenstruktur zu erzeugen. Die zweidimensionale Verteilung der harmonischen Intensität wird für verschiedene experimentelle Geometrien quantitativ bestimmt. Auf diese Weise läßt sich der Tensor der optischen Suszeptibilität zweiter Ordnung jeder einzelnen im Mikroskop aufgelösten Struktur messen. Der Suszeptibilitäts-Tensor wird molekular interpretiert. Die zweidimensionale Verteilung der optischen Nichtlinearitäten wird in das zugehörige molekulare Orientierungsfeld der Grenzfläche transformiert. Das Verfahren liefert zusätzliche Information, die man linear optisch nicht gewinnen kann. Es kann auf transparente wie auf reflektierende Grenzflächen angewandt werden. Die Auflösungsgrenze des stigmatischen Mikroskops ist die Abbesche Grenze für das harmonische Licht (Wellenlänge z.B. 532 nm).