Münster 1997 – wissenschaftliches Programm

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O: Oberflächenphysik

O 22: POSTER II

O 22.59: Poster

Mittwoch, 19. März 1997, 14:15–15:45, AULA

Einflu"s der Auflagekraft bei der Abbildung von Schwerionenspuren in Glimmer mittels Rasterkraftmikroskopie — •B. Siegmann, J. Ackermann, A. M"uller, R. Neumann, and Y. Wang — GSI – Gesellschaft f"ur Schwerionenforschung Darmstadt, Planckstra"se 1, D–64291 Darmstadt

Am Schwerionenbeschleuniger UNILAC der GSI wurden Glimmerpl"attchen mit hochenergetischen Schwerionen bestrahlt und anschlie"send mit einem Rasterkraftmikroskop (RKM) an Luft untersucht. Fr"uhere RKM–Studien an frischen Spaltfl"achen wiesen die latenten Ionenspuren als kreisf"ormige (Durchmesser einige nm), amorphe Bereiche aus, deren Topographie nicht von der Gitterebene abweicht, die jedoch in der Lateralkraft–Detektion einen erh"ohten Gleitreibungskoeffizienten zeigen [1, 2].
Bei den jetzigen Untersuchungen lag der Schwerpunkt auf dem Einflu"s der Abbildungsparameter bei der Bestimmung der Spurradien. Hierbei zeigte sich, da"s das RKM die Ionenspuren als Funktion der Auflagekraft mit zunehmendem Radius abbildet. Dieses Verhalten wurde auch von Seider et al. beobachtet [3]. Die Problematik von Sensoreinflu"s und Probeneigenschaften wird diskutiert.

[1] T. Hagen et al., J. Vac. Sci. Technol. B 12(3), 1555 (1994)

[2] J. Ackermann et al., NIM B 107, 181 (1996) und R. Neumann et al., NIM B 116, 492 (1996)

[3] M. Seider et al., Phys. Rev. B 53, R 180 (1996)