Münster 1997 – wissenschaftliches Programm

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O: Oberflächenphysik

O 26: Methodisches (Experiment)

O 26.1: Vortrag

Mittwoch, 19. März 1997, 16:00–16:15, BOT

µ–ESCA und µ–AES Untersuchungen an Oberflächen von metallischen Schichtsystemen — •O. Schmidt¹, Ch. Ziethen¹, D. Menke², A. Oelsner¹, U. Kleineberg², G.H. Fecher¹, U. Heinzmann² und G. Schönhense¹ — ¹Institut für Physik, Johannes–Gutenberg–Universität Mainz — ²Fakultät für Physik, Universität Bilefeld

Das Bild eines Photoemissions–Elektronenmikroskops ensteht üblicherweise durch Abbildung von Sekundärelektronen nahe der Abschneidekante. Bei Anregung durch weiche Röntgenstrahlung mit fester Energie ergibt sich der Bildkontrast der Oberfläche durch die unterschiedliche Sekundärelektronenausbeute der Materialien. Damit enthält das Mikroskop noch keine elementspezifische Information. Zur Charakterisierung von Oberflächen wurde hierzu ein neuer Weg der Mikroskopie beschritten: In den Strahlengang des Mikroskops wurde ein nicht abbildendes Spektrometer (Focus Micro–ESCA) eingesetzt. µ–XPS bzw. µ–AES durch Elektronenbeschuß der Probe wurde durch Ausblenden kleiner Bildbereiche mittels einer Irisblende in der Zwischenbildebene realisiert. Damit wurden Ortsauflösungen im Bereich einiger µm erreicht und chemische Kontraste sichtbar gemacht. Beispiele: Sauerstoffkonzentration in Pt–Co/Si Schichtsystem, Stöchiometrie von Defekten in epitaktischen CeNi₂Ge₂–Schichten.