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Münster 1997 – scientific programme

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O: Oberflächenphysik

O 32: Isolatoroberflächen

Thursday, March 20, 1997, 11:15–13:00, PC 4

11:15 O 32.1 UHV Rasterkraftmikroskopie an CaF2 — •R. Bennewitz, M. Reichling und E. Matthias
11:30 O 32.2 Photoemission und Photoleitfähigkeit für CaF2 — •M. Huisinga, M. Reichling und E. Matthias
11:45 O 32.3 AFM-Untersuchungen an amorphen kohlenstoffhaltigen Bariumsilikaten — •W. Raberg und K. Wandelt
12:00 O 32.4 XPD an BCTO: Einbauplatzbestimmung des Ca — •B. Schneider, R. Niemann und M. Neumann
12:15 O 32.5 Das Mischsystem Kr / Xe auf NaCl(100) — •K. Budde, M. Eichmann, W. Ernst und H. Pfnür
12:30 O 32.6 Defekt-induziertes Zerstäuben von Isolatoren (LiF, SiO2) mit hyperthermischen, hochgeladenen Ionen:
Arq+ (q≤ 14), Xeq+ (q≤ 27) → LiF und SiO2
— •G. Libiseller, M. Sporn, M. Schmid, F. Aumayr, HP. Winter, P. Varga, M. Grether und N. Stolterfoht
12:45 O 32.7 NICASS - Eine neue Methode zur Oberflächenstrukturbestimmung von Isolatoren — •Andreas Losch und Horst Niehus
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