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O: Oberflächenphysik

O 4: Raster-Kraft-Mikroskopie I

Montag, 17. März 1997, 09:30–11:15, BOT

09:30 O 4.1 Untersuchung von Ladungsverteilungen in photorefraktiven Kristallen mit dem Rasterkraftmikroskop — •E. Soergel, W. Krieger, V. Vlad und H. Walther
09:45 O 4.2 Aufbau eines Rasterkraftmikroskops mit Faserkopplung und Lichtzeigerdetektion — •R. Steinkampf, S. Lukas, R. Houbertz und U. Hartmann
10:00 O 4.3 Atomare Auflösung auf Gold(111) mit dem Raster–Kraft–Mikroskop im UHV — •P. Güthner und Molitor
10:15 O 4.4 AFM bei Variabler Temperatur im UHV — •A. Feltz, P. Guethner und T. Berghaus
10:30 O 4.5 FUZZY LOGIC CONTROL APPLIED TO SCANNING PROBE MICROSCOPY — •F.M. BATTISTON, M. BAMMERLIN, R. LÜTHI, E. MEYER, M. GUGGISBERG, J. LÜ, L. HOWALD, and H.-J. GÜNTHERODT
10:45 O 4.6 Analyse von Wechselwirkungsmechanismen im dynamischen
AFM-Betrieb durch Simulation und Experiment
— •B. Anczykowski, D. Krüger und H. Fuchs
11:00 O 4.7 Aufbau und Test eines UHV-Rasterkraftmikroskopes mit interferometrischer Auslenkungsdetektion — •P. Leinenbach, U. Memmert, M. Laerbusch, H.-A. Fuß, F. Saurenbach und U. Hartmann
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