Münster 1997 – wissenschaftliches Programm

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O: Oberflächenphysik

O 6: POSTER I

O 6.73: Poster

Montag, 17. März 1997, 14:15–15:45, AULA

Manipulation von Nanopartikeln mit dem Rastertunnelmikroskop — •T. Gabriel, P. Radojkovic, P. Marquardt und E. Hartmann — Physik-Department E16, Techn. Univ. München, James-Franck-Str., D-85747 Garching

Individuelle metallische und halbleitende Nanoteilchen wurden mit Hilfe von zwei unterschiedlichen Verfahren hergestellt und in hoher Verdünnung auf ein Fremdsubstrat aufgebracht, so daß die Belegung weit unterhalb einer Monolage war. Zur Identifikation und Manipulation der Nanoteilchen wurde ein UHV-Rastertunnelmikroskop (RTM) verwendet. Die Präparation der Nanoteilchen erfolgte durch: (a) Verdampfen von Ag in Gegenwart einer Edelgasatmosphäre und (b) durch Herstellen einer kolloidalen Lösung (CdS). Als Fremdsubstrat wurden Si(111)-Wafer eingesetzt. Die Si(111)-Substrate wurden in gepufferter Flußsäure naßchemisch behandelt und mit Wasserstoff passiviert. RTM-Aufnahmen von derart präparierten Substraten zeigen atomare (bilayer) Stufen. Die experimentellen Resultate, die an den Nanoteilchen gewonnen wurden, belegen, daß die Adhäsionseigenschaften der Teilchen von der Substratoberflächengeometrie (Stufenkanten, Defekte) bestimmt werden. Das Verschieben und die gezielte Anordnung der Teilchen mit der Tunnelspitze des RTM wird anhand von zwei Verfahren demonstriert. Die durchgeführten Experimente sollen zum Verständnis des Einflusses der elektrischen und van der Waals Wechselwirkungen auf die Haft- und Verschiebeeigenschaften der Teilchen beitragen.