Regensburg 1998 – wissenschaftliches Programm

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DS: Dünne Schichten

DS 15: Organische Schichten

DS 15.2: Fachvortrag

Dienstag, 24. März 1998, 18:30–18:45, H 34

Charakterisierung bifunktionaler Silanstrukturen auf Silizium mit dem RKM — •Ulrich Krotil, Sabine Hild und Othmar Marti — Abteilung für Experimentelle Physik, Universität Ulm, Albert-Einstein-Allee 11, D-89069 Ulm

Während sich die Mikrokontaktdrucktechnik (µCP) für die Herstellung strukturierter selbstorganisierender Monolagen (SAMs) von Alkanthiolen auf Goldoberflächen bereits zu einer gebräuchlichen Technik etabliert hat, steht ihre Entwicklung und die Anwendung für das System Silane/Silizium noch am Anfang. Alkylchlorsilane auf hydratisierte Siliziumoberflächen verhalten sich beim Stempeln komplementär zu dem System Alkanthiole/Gold: Silane zeigen keine spontane Selbstorganisation und Silanschichten erscheinen deutlich weniger geordnet als Thiolschichten. In dieser Arbeit werden durch Kombination von Mikrokontaktdruck und Gasphasensilanierung phasenseparierte Silanschichten auf Silizium mit Hilfe der Rasterkraftmikroskopie (RKM) hinsichtlich der Güte der verwendeten Strukturierungsmethode, wie Auflösung oder Kantenschärfe, untersucht. Der in unserer Abteilung entwickelte Pulsed Force Mode ermöglicht die bifunktionalen Silanstrukturen neben ihrer Topographie bezüglich ihrer Adhäsion und Steifigkeit zerstörungsfrei zu charakterisieren. Durch Verwendung von funktionalisierten Spitzen läßt sich deren chemische Sensitivität deutlich erhöhen, so daß sich chemisch unterschiedliche topographisch nicht unterscheidbare Bereiche durch Adhäsionskontraste deutlich darstellen lassen.