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HL: Halbleiterphysik
HL 24: Poster II
HL 24.42: Poster
Mittwoch, 25. März 1998, 10:30–19:00, A
Optische Nahfeld-Reflektionsspektroskopie an Halbleiternanostrukturen — •W. Langbein1, J.M. Hvam1, and S.M. Madsen2 — 1Mikroelektronik Centret, The Technical University of Denmark, Building 345 east, DK–2800 Lyngby, Denmark — 2DME - Danish Micro Engineering A/S, Transformervej 12, DK–2730 Herlev, Denmark
Wir stellen eine neuartige optische Nahfeldtechnik vor, die lokale Polarisierbarkeiten einer topographisch ebenen Probe mit einer Ortsauflösung besser als 100 nm mißt. Wir benutzen ein umgebautes Rasterkraftmikroskop mit einer unbeschichteten Glasfaserspitze in Scherkraftregelung. Um Untergrundsignale durch Fernfeldreflektionen zu unterdrücken, detektieren wir die kreuzpolarisierte Komponente des internen Faserrückreflexes. Dieses Signal wird in Phase mit der Schwingungfrequenz der Faser detektiert, wodurch topographische Artefakte unterdrückt werden. Wir demonstrieren die Leistungsfähigkeit dieser Technik an oberflächennahen Quantenfilmen, relaxierten Si-Ge Oberflächen, und GaAs T-förmigen Quantendrähten.