O 14: Adsorption an Oberfl
ächen (II)
Dienstag, 24. März 1998, 11:15–13:30, H36
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11:15 |
O 14.1 |
Oxidation von GaAs(100) — •Laurens Verheij
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11:30 |
O 14.2 |
Eine TDS- und SHG- Untersuchung zur Adsorption und Desorption von Wasserstoff auf Bor-dotierten Siliziumschichten — •G. He"s, B. Gong, P. Parkinson, and J.G. Ekerdt
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11:45 |
O 14.3 |
Statische und zeitabhängige HREELS-Untersuchungen an
Fe(CO)5 / Si(111) 7x7 — •S. Mühlbauer und H. Froitzheim
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12:00 |
O 14.4 |
Surface structure analisis of O/alkali-metal/Si(111) with XSW — •C. Sánchez-Hanke, A. Hille, V. Eteläniemi, E.G. Michel, and G. Materlik
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12:15 |
O 14.5 |
Stabilisierung von Si(103): Adsorption von Bi im Vergleich zu Gruppe III-Elementen — •J.H. Zeysing, H. Klar, G. Falkenberg und R.L. Johnson
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12:30 |
O 14.6 |
Photoelektronenspektroskopie an Lithium auf der naßchemisch präparierten Si(111)-(1×1):H-Oberfläche† — •Chr. Weindel, Marilena Carbone, J.J. Paggel, D. Fick und K. Horn
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12:45 |
O 14.7 |
Untersuchung der dissoziativen Adsorption von molekularem Wasserstoff auf gestuften Si(001)-Oberflächen mit Molekularstrahl und SHG — •M. Dürr, M. B. Raschke und U. Höfer
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13:00 |
O 14.8 |
Bestimmung der Adsorptionswärme von Wasserstoff auf Si(111) — •M. B. Raschke and U. H"ofer
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13:15 |
O 14.9 |
Atomar glatte ultradünne Oxidschichten auf Si(113) — •Hans-Joachim Müssig, Jarek Dabrowski und Silvia Hinrich
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