Regensburg 1998 – wissenschaftliches Programm

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O: Oberflächenphysik

O 34: Poster (II)

O 34.102: Poster

Donnerstag, 26. März 1998, 20:00–22:30, Bereich C

Kolloidale Masken: Alternatives Lithographieverfahren ohne Beugungsbeschränkung — •F. Burmeister, C. Schäfle, W. Badowsky, J. Boneberg und P. Leiderer — Universität Konstanz, Fakultät für Physik, D-78434 Konstanz

Eine alternative Methode zur Oberflächenstrukturierung im Nanometer-Bereich besteht in der Verwendung sogenannter ‚Kolloidaler Masken‘. Durch natürliche Selbstorganisation von in Wasser dispergierten, kugelförmigen Teilchen entstehen beim Eintrocknen auf einem festen Substrat hexagonal geordnete Mono– und Multilagen dieser Partikel. Sie lassen sich im folgenden als Maske für z.B. Aufdampf- oder Sputterprozesse verwenden, wobei die Größe der erhaltenen Strukturen nur vom Durchmesser der Teilchen abhängt und damit stufenlos von einigen zehn nm bis einige µm variiert werden kann. Durch leichte Modifikationen lassen sich auch UHV-kompatible, transportable Masken herstellen. Abhängig vom ‚Belichtungsverfahren‘kann man so eine Vielzahl unterschiedlicher Strukturen verwirklichen. Es werden sowohl Beispiele für dreieckige und zylinderförmige als auch ringförmige Strukturen gezeigt.

Diese Arbeit wird von der Deutschen Forschungsgemeinschaft gefördert (SFB 513 / TP A2)