Regensburg 1998 – wissenschaftliches Programm

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O: Oberflächenphysik

O 34: Poster (II)

O 34.78: Poster

Donnerstag, 26. März 1998, 20:00–22:30, Bereich C

Bestimmung der lokalen Symmetrie und Ordnung von Oberflächen durch Second-harmonic Mikroskopie — •M. Flörsheimer, Ch. Brillert, M. Wierschem und H. Fuchs — Physikalisches Institut, Universität Münster, Wilhelm-Klemm-Str.10, 48149 Münster

Das Verfahren basiert auf der grenzflächenspezifischen Erzeugung frequenzverdoppelten Lichts bei Einstrahlung hoher Laserintensitäten. Das Signal wird in einem linear optischen stigmatischen Polarisations-Mikroskop genutzt, um ein vergrößertes Abbild der Grenzflächenstruktur zu erzeugen. Es wird gezeigt, daß der Tensor der optischen Suszeptibilität zweiter Ordnung jeder im Mikroskop aufgelösten Domäne oder Struktur gemessen werden kann. Aus der Form des Tensors ergibt sich die lokale Symmetrie der Oberfläche. Aus den Werten der Tensorelemente gewinnt man Information über die lokale Orientierung der Moleküle und ihre Oberflächendichte. Am Beispiel eines organischen Monofilms wird das polare molekulare Orientierungsfeld bestimmt. Das Verfahren liefert zusätzliche Information, die man linear optisch nicht gewinnen kann. Verschiedene nichtkollineare Geometrien, die kein linear optisches Analogon aufweisen, vereinigen zahlreiche Vorzüge. Möglichkeiten und Grenzen der Technik werden herausgearbeitet und mit linear optischen Mikroskopietechniken verglichen.