Regensburg 1998 – wissenschaftliches Programm
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SYC: Symposium Raster-Sonden-Mikroskopie und -Spektroskopie bei tiefen Temperaturen
SYC 4: Kurzvorträge II
SYC 4.3: Vortrag
Dienstag, 24. März 1998, 16:15–16:30, H18
Atomare Auflösung im UHV bei 10 K mit einem neuen Design eines Rasterkraftmikroskops — •W. Allers, A. Schwarz, U. D. Schwarz und R. Wiesendanger — Institut für Angewandte Physik, Universität Hamburg, Jungiusstr. 11, 20355 Hamburg
Die Untersuchung vieler physikalischer Pänomene wie z. B. zahlreicher Phasenübergänge oder die stabile Kondensation kleinerer Adsorbate auf inerten Oberflächen erfordert tiefe Temperaturen. Zu diesem Zweck wurde ein Rasterkraftmikroskop (RKM) entwickelt, das atomare Auflösung bei tiefen Temperaturen bis zu 10 Kelvin und einem Druck von unter 10−10 mbar erreicht.
Das zum RKM gehörige UHV-System ist auf einem schwingungsisolierten Tisch aufgebaut und besteht aus einem ausheizbaren Kryostaten, über dem drei UHV-Kammern zur Präparation und Analyse und für das RKM montiert sind. Der in-situ Cantilever- und Proben-Wechsel erfolgt in der RKM-Kammer bei Raumtemperatur. Das Mikroskop wird mit einem speziell konstruierten Kettenmechanismus in den Tieftemperaturbereich abgesenkt. Als Detektionsmechanismus dient ein Glasfaser-Interferometer; Eigenbau-Elektroniken ermöglichen sowohl Kontakt- als auch Nichtkontakt-Messungen. Im Vortrag werden außer dem gesamten Mikroskop- und Kammerdesign atomar aufgelöste, im Kontaktmodus bei Temperaturen von 300 K, 77 K und 10 K aufgenommene Bilder ebenso gezeigt wie “echte atomare Auflösung” im Nichtkontakt-Betrieb.