Heidelberg 1999 – wissenschaftliches Programm
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K: Kurzzeitphysik
K 7: Laser-Anwendungen/-Materialbearbeitung
K 7.4: Vortrag
Donnerstag, 18. März 1999, 17:15–17:30, GE1
Laserunterstütztes Trockenätzen (LDE) von Glas mittels cw-UV-Laserstrahlung — •M. Jacquorie, E.W. Kreutz und R. Poprawe — Lehrstuhl für Lasertechnik, RWTH Aachen, Steinbachstraße 15, D-52074 Aachen
Die Mikrostrukturierung von Glas mit einem laserunterstützten
Fluor-Trockenätzprozeß in einer reaktiven Prozeßgasatmosphäre aus
F2, Ar und MMA wird untersucht. Zur effektiven Anregung der
Prozeßgasatmosphäre wird ein frequenzverdoppelter Ar+-Ionenlaser
(λL=257 nm) verwendet. Die Herstellung von anisotrop geätzten
Strukturen soll durch PMMA-Passivierungsschichten ermöglicht werden, die
in-situ mittels mikrowellenunterstützter Radikalkettenpolymerisation oder
Laser-induced Chemical Vapour Deposition (LCVD) von MMA auf den Strukturkanten
und der nicht zu bearbeitenden Glasoberfläche deponiert werden.
Der
Zusammenhang der Ätzrate AGlas und der Oberflächenrauheit RZ der
prozessierten Glasoberfläche mit dem F2-Partialdruck pF2 und der
Leistungsdichte der Laserstrahlung PL wird dargestellt. Die Selektivität
des Ätzprozesses APMMA/AGlas und die Abhängigkeit der
Kantensteilheit der Mikrostrukturen vom MMA-Partialdruck pMMA wird
untersucht. Die den experimentellen Ergebnissen zugrunde liegenden
physikalischen und chemischen Prozesse werden beschrieben, z.B. wird die
Ätzrate AGlas durch ein thermisches Desorptionsmodell mit der
Oberflächentemperatur TGlas korreliert.