Münster 1999 –
wissenschaftliches Programm
DS 4: Ionenimplantation IV
Montag, 22. März 1999, 15:30–16:30, PC 7
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15:30 |
DS 4.1 |
Fachvortrag:
Vergleich des Einfärbeverhaltens gesputterter und aufgedampfter WO3-Filme durch mittelenergetische Ionenbestrahlung — •Matthias Merz, Bernd Heinz, Reiner Notz und Paul Ziemann
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15:45 |
DS 4.2 |
Fachvortrag:
Untersuchungen von magnetischen Eigenschaften an Xe-Ionen bestrahlten Fe- und Ni-Schichten mit Hilfe des Magnetooptischen Kerr-Effekts. — •K. Zhang, K.-P. Lieb, M. Uhrmacher, W. Felsch, and M. Münzenberg
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16:00 |
DS 4.3 |
Fachvortrag:
Ion-beam induced mixing in Ni3N/Al and Ni3N/Si bilayers — •S. Dhar, L. Rissanen, P. Schaaf, and K.-P. Lieb
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16:15 |
DS 4.4 |
Fachvortrag:
Tiefenselektive Phasenanalyse Si-ionenimplantierter α-Fe-Oberflächen mittels DCEMS — •M. Walterfang, S. Kruijer, W. Keune, M. Dobler und H. Reuther
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