Regensburg 2000 – wissenschaftliches Programm

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DS: Dünne Schichten

DS 10: In-situ-Charakterisierung II

DS 10.1: Fachvortrag

Montag, 27. März 2000, 11:00–11:15, H32

Ein Ellipsometer mit neuem optischen Design für die Prozeßkontrolle an inline Beschichtungsanlagen — •Georg Dittmar, Uwe Richter und Uwe Wielsch — SENTECH Instruments GmbH, Carl-Scheele-Straße 16, 12489 Berlin

Steigende Anforderungen an die Qualität von Beschichtungen in industriellen Produktionsanlagen erfordern verbesserte Meßverfahren zur In-situ-Charakterisierung dünner Schichten. Ein Ellipsometer mit neu entwickeltem optischen Design verbessert den Einsatz der präzisen und bewährten ellipsometrischen Meßmethode auch im Produktionsumfeld.

Die Verwendung eines gefalteten Strahlengangs mit zusätzlichen Spiegeln erbringt hier deutliche Vorteile: Reduzierung von zwei Flanschen unter schrägem Einfallswinkel auf einen Flansch unter senkrechtem Einfallswinkel; Großer Arbeitsabstand; Automatische Höhenkontrolle; Reduzierter Footprint; Stabilität gegenüber Vibrationen; Optionaler Einbau eines zusätzlichen Reflektometers.

Das System wurde für inline Anlagen für die Glasbeschichtung entwickelt. Die Funktionsweise des Aufbaus, die Vorteile bei der Adaption sowie Ergebnisse von Messungen an dünnen Schichten werden vorgestellt. Weiterhin werden die Möglichkeit eines Ex-situ-Einsatzes sowie die Verwendung von Mikrospotlinsen vorgestellt.