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Regensburg 2000 – wissenschaftliches Programm

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DS: Dünne Schichten

DS 22: Organische Schichten II

DS 22.1: Fachvortrag

Mittwoch, 29. März 2000, 14:45–15:00, H31

Oberflächen-Verlustwahrscheinlichkeiten von Radikalen aus Kohlenwasserstoffplasmen — •Christian Hopf, Achim von Keudell, Thomas Schwarz-Selinger und Wolfgang Jacob — Max-Planck-Institut für Plasmaphysik, EURATOM Association, D-85748 Garching

Die Oberflächen-Verlustwahrscheinlichkeit β eines reaktiven Teilchens setzt sich aus dem effektiven Stickingkoeffizienten s und der Wahrscheinlichkeit γ für eine Oberflächenreaktion zu einem flüchtigen, nichtreaktiven Produkt zusammen. Sie wurde mit der Hohlraum-Technik für die in der plasmagestützten Abscheidung amorpher Kohlenwasserstoffschichten dominant zum Schichtwachstum beitragenden Radikale bestimmt.
Zur Erklärung sämtlicher für die verschiedenen Quellgase und Probenpositionen erhaltenen Schichtdickenverteilungen reichen die drei Werte β1=0,80±0,05, β2=0,35±0,15 und β3≤ 10−2 aus, die einzelnen Radikalenspezies zugeordnet werden. Das Auftreten von drei unterschiedlichen β-Werten wird durch die verschiedenen Hybridisierungszustände des Kohlenstoffs im Radikal erklärt.

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