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DS: Dünne Schichten
DS 36: Harte Schichten V
DS 36.5: Fachvortrag
Thursday, March 30, 2000, 16:45–17:00, H32
Nanohaerte, Bindungsstruktur und Feldemission von CSixNy-, CBxNy-, CNx- und DLC-Duennfilmen abgeschieden durch N-plasmagestuetzte PLD — •Thomas Thaerigen und Michael Lorenz — Universitaet Leipzig, Fakultaet fuer Physik und Geowissenschaften, 04103 Leipzig
Duenne Schichten aus Kohlenstoff-Siliziumnitrid (CSixNy), Kohlenstoff-Bornitrid (CBxNy), Kohlenstoffnitrid (CNx) und diamantaehnlichem Kohlenstoff (DLC) wurden mittels gepulster Laserzerstaeubung von Graphit-Targets mit unterschiedlichem Siliziumnitrid- bzw. Bornitrid-Gehalt unter Verwendung einer zusaetzlichen Stickstoff-Radiakalenquelle auf [100] orientierten Siliziumsubstraten abgeschieden (PLD).
Die duennen CSixNy-Schichten sind amorph und zeigen eine Nanohaerte von bis zu 23 GPa bei 5 Atomprozent Siliziumnitrid im Kohlenstoff-Target im Vergleich zu 14 GPa fuer das Siliziumsubstrat.
XPS-Untersuchungen an CSixNy- und CBxNy-Schichtoberflaechen zeigen eine deutliche Korrelation von Bindungsenergie und Intensitaet der N 1s, C 1s, und Si 2p Peaks mit der Targetzusammensetzung und dem Stickstoff-Fluss durch die Radikalenquelle. Damit kann die Bindungsstruktur dieser Filme durch die PLD-Abscheideparameter eingestellt werden. AES, FTIR und Ramanspektroskopie liefern ergaenzende Informationen.
Gefoerdert durch den INK 24.