Regensburg 2000 – wissenschaftliches Programm

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O: Oberflächenphysik

O 11: Postersession (Eröffnung)

O 11.91: Poster

Montag, 27. März 2000, 19:00–22:00, Bereich C

Abstandsmodulation im Rastertunnelmikroskop — •Anne-D. Müller¹, Falk Müller¹, Anne-D. Müller^1,2, Markus Lackinger³, Michael Hietschold¹, Angelika Bunk¹, Falk Müller¹ und Michael Hietschold¹ — ¹TU Chemnitz, Institut für Physik, 09107 Chemnitz — ²Anfatec, Schmidtstr. 63, 08606 Oelsnitz (V) — ³FH München, FB 06, 80335 München

Mit einem Rastertunnelmikroskop (STM) lassen sich simultan zur topographischen auch spektroskopische Informationen über die elektronischen Eigenschaften einer Oberfläche gewinnen, indem man die Tunnelspannung oder den Spitze-Probe-Abstand in gezielter Weise variiert.[1] Beispielsweise kann die Modulation des Abstandes zur Bestimmung von Austrittsarbeitsdifferenzen im STM genutzt werden.[2] In diesem Beitrag wird die gerätetechnische Realisierung einer verbesserten Abstandsmodulation vorgestellt, typische Kenngrösen zusammengefast sowie an Anwendungsbeispielen deren Funktion demonstriert.

[1] F. üller et al., Rev. Sci. Instru. 68 (8), 3104 (1997).

[2] A.-D. üller et al., Appl. Phys. Lett. 74 (20), 2063 (1999).