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Hamburg 2001 – wissenschaftliches Programm

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O: Oberflächenphysik

O 23: Oxide und Isolatoren (I)

Dienstag, 27. März 2001, 16:15–18:45, M

16:15 O 23.1 Strukturuntersuchung von dünnen Vanadiumoxidfilmen auf Cu3Au(100) — •Dirk Ahlbehrendt, Ralph-Peter Blum und Horst Niehus
16:30 O 23.2 Festkörper- und Oberflächenphasen von Eisenoxiden bei niedrigen Sauerstoffpartialdrücken — •Guido Ketteler, Werner Weiss, Wolfgang Ranke und Robert Schlögl
16:45 O 23.3 Präparation Kalium-promotierter Eisenoxidfilme als Modellkatalysatoren — •Wolfgang Ranke, Yvonne Joseph, Guido Ketteler und Christian Kuhrs
17:00 O 23.4 Oxidation of CoGa(100) Surface — •Feng-Ming Pan, Christian Pflitsch, Rudolf David, Laurens Verheij, and René Franchy
17:15 O 23.5 Oxidation der Ni3Al(111) Oberfläche untersucht mit SPA-LEED und Röntgenbeugung — •F. Wendler, O. Bikondoa, X. Torelles, G.R. Castro und W. Moritz
17:30 O 23.6 Die Oxidation von Ni3Al(100) bei 1150 K mit O2 im Druckbereich von 10−6 -10−8 mbar — •Ioan Costina und René Franchy
17:45 O 23.7 Oxidationsinduzierte Umordnung der NiAl(110)/Al2O3 Grenzfläche — •A. Stierle, F. Renner, R. Streitel und H. Dosch
18:00 O 23.8 Modellkatalytische Studien an Vanadiumoxid-Partikeln auf Al2O3/NiAl(110) — •N. Magg, M. Bäumer und H.-J. Freund
18:15 O 23.9 XPS, XAS und XES an Sr2FeMoO6 — •Bernd Schneider, Andrej Postnikov, Maurizio Matteucci und Manfred Neumann
18:30 O 23.10 Geometrie von dünnen NaCl(100)–Schichten — •H. Pfnür, M. Eichmann und W. Ernst
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