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O: Oberflächenphysik

Mo, 09:30–10:15 B O 1: Hauptvortrag
Mo, 10:15–11:00 B O 2: Hauptvortrag
Mo, 11:15–13:00 B O 3: Rastersondentechniken (I)
Mo, 11:15–13:15 C O 4: Elektronische Struktur (I)
Mo, 11:15–13:15 M O 5: Oberfl
ächenreaktionen (I)
Mo, 11:15–13:15 K O 6: Nanostrukturen (I)
Mo, 14:30–15:15 B O 7: Hauptvortrag
Mo, 15:15–16:00 B O 8: Hauptvortrag
Mo, 16:15–18:45 B O 9: Organische Dünnschichten und Festkörper
Mo, 16:15–19:00 C O 10: Adsorption an Oberfl
ächen (I)
Mo, 16:15–19:00 M O 11: Zeitaufgelöste Spektroskopie
Mo, 16:15–18:45 K O 12: Grenzfl
äche fest-flüssig
Mo, 19:00–22:00 Foyer zu B O 13: Postersitzung (Adsorption auf Oberfl
ächen, Oberfl
ächenreaktionen, Elektronische Struktur, Epitaxie und Wachstum, Halbleiteroberfl
ächen und Grenzfl
ächen, Oxide und Isolatoren)
Di, 09:30–10:15 B O 14: Hauptvortrag
Di, 10:15–11:00 B O 15: Hauptvortrag
Di, 11:15–13:15 B O 16: Elektronische Struktur (II)
Di, 11:15–13:30 C O 17: Adsorption an Oberfl
ächen (II)
Di, 11:15–13:15 M O 18: Halbleiteroberfl
ächen und -grenzfl
ächen
Di, 11:15–12:15 K O 19: Struktur und Dynamik reiner Oberfl
ächen
Di, 15:15–16:00 B O 20: Hauptvortrag
Di, 16:15–19:00 B O 21: Oberfl
ächenreaktionen (II)
Di, 16:15–18:45 C O 22: Epitaxie und Wachstum (I)
Di, 16:15–18:45 M O 23: Oxide und Isolatoren (I)
Di, 16:15–18:45 K O 24: Teilchen und Cluster (I)
Mi, 15:00–18:00 Foyer zu B O 25: Postersitzung (Grenzfl
äche fest-flüssig, Methodisches, Nanostrukturen, Organische Dünnschichten, Rastersondentechniken, reine Oberfl
ächen, Teilchen und Cluster, Zeitaufgelöste Spektroskopie, Sonstiges)
Do, 09:30–10:15 B O 26: Hauptvortrag
Do, 10:30–13:15 B O 27: Elektronische Struktur (III)
Do, 10:30–13:30 C O 28: Adsorption an Oberfl
ächen (III)
Do, 10:30–13:15 M O 29: Rastersondentechniken (II)
Do, 10:30–13:30 K O 30: Oberfl
ächenreaktionen (III)
Do, 14:30–15:15 B O 31: Hauptvortrag
Do, 15:30–19:00 C O 32: Epitaxie und Wachstum (II)
Do, 15:30–18:45 M O 33: Methodisches (Experiment und Theorie)
Do, 15:30–18:45 K O 34: Teilchen und Cluster (II)
Do, 20:00–22:00 B O 35: Postdeadline Session
Fr, 10:15–11:00 B O 36: Hauptvortrag
Fr, 11:15–13:15 B O 37: Epitaxie und Wachstum (III)
Fr, 11:15–13:15 C O 38: Adsorption an Oberfl
ächen (IV)
Fr, 11:15–13:15 M O 39: Nanostrukturen (II)
Fr, 11:15–13:00 K O 40: Oxide und Isolatoren (II)
Di, 14:30–15:15 B O 200: Gaedepreis-Vortrag
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