Regensburg 2002 – wissenschaftliches Programm

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DS: Dünne Schichten

DS 27: Postersitzung

DS 27.16: Poster

Dienstag, 12. März 2002, 15:30–17:30, Poster Physik B

Kinetik des nativen Oxidwachstums auf gesputterten Tantal-Schichten — •T. Klein, R. Röhlsberger, A. Bernhard und E. Burkel — Universität Rostock, August-Bebel-Str. 55, D-18055 Rostock

In diesem Beitrag beschreiben wir die Kinetik des Oxidwachstums von Tantalschichten, die im Sputterverfahren hergestellt wurden. Gesputterte Tantalschichten sind amorph; aus diesem Grund bildet die native Oxidschicht eine scharfe Grenzfläche mit dem Metall. Mittels Röntgenreflexion in streifendem Einfall lässt sich die Dicke der Oxidschicht mit einer Genauigkeit von 0.05 nm bestimmen. Dies erlaubt eine hochgenaue Bestimmung des zeitlichen Verlaufs des Oxidwachstums. Die Kinetik des Wachstums kann nicht mit den bekannten empirischen Wachstumsgesetzen von Wagner und Mott beschrieben werden. Daher wurde ein neues empirisches Gesetz bestimmt, das die Dicke der Oxidschicht in Abhängigkeit von der Zeit beschreibt.