Dresden 2003 – wissenschaftliches Programm

Bereiche | Tage | Auswahl | Suche | Downloads | Hilfe

MA: Magnetismus

MA 14: Poster: Schichten(1-31), Spinabh.Trsp.(32-47), Exch.Bias(48-54), Spindyn.(55-64), Mikromag.(65-76), Partikel(77-88), Oflmag.(89-92), Spinelektr.(93-98), Elektr.Theo.(99-103), Mikromag+PhasÜ+Aniso.(104-122), MagnMat.(123-134), Messm+Mol-Mag.(135-139), Kondo(140-151)

MA 14.2: Poster

Dienstag, 25. März 2003, 15:15–19:15, Zelt

Inversion des AMR von Kobalt-Filmen auf p⁺-Si — •Jürgen Kötzler und Woosik Gil — Institut für Angewandte Physik Universität Hamburg, D-20355 Hamburg

Der Magnetowiderstand (MR) 5 nm - 20 nm dünner, durch dynamische Kathodenstrahlzerstäubung hergestellter Co-Filme[1] wurde in Feldern bis zu 12 Tesla untersucht. Vergleichsproben auf SYNSIL- und n-Si-Subtstraten zeigen bei 300 K den konventionellen negativen AMR, während auf hochdotiertem p-Si aufgebrachte Filme diesen AMR nur unterhalb von 200 K aufweisen. In letzteren wechselt der MR zu höheren Temperaturen hin das Vorzeichen und gleichzeitig öffnet sich ein zusätzlicher Leitfähigkeitskanal, der auf eine Metallisierung der Co/p-Si Grenzfläche hinweist. Bei sehr kleinen Feldern, B ≤ 10 mT wird dieser MR stark richtungsabhängig und in einem phänomenologischen Zweiband Modell diskutiert.

[1] P. Böni, A. Braun, PSI Villigen, Schweiz