Dresden 2003 – wissenschaftliches Programm

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MA: Magnetismus

MA 14: Poster: Schichten(1-31), Spinabh.Trsp.(32-47), Exch.Bias(48-54), Spindyn.(55-64), Mikromag.(65-76), Partikel(77-88), Oflmag.(89-92), Spinelektr.(93-98), Elektr.Theo.(99-103), Mikromag+PhasÜ+Aniso.(104-122), MagnMat.(123-134), Messm+Mol-Mag.(135-139), Kondo(140-151)

MA 14.75: Poster

Dienstag, 25. März 2003, 15:15–19:15, Zelt

Leitfähigkeitsmessungen von Nanopunkten mit dem Rastertunnelmikroskop — •Daniel Severin und Günther Dumpich — Exp. Tieftemperaturphysik, Institut für Physik, Fakultät IV, Gerhard-Mercator-Universität Duisburg, 47057 Duisburg

Es wird eine Methode vorgestellt, wie mit einem Rastertunnelmikroskop Punktkontakte zwischen einer Wolframspitze und „ Dots“ hergestellt werden können, um deren CPP-Widerstand (CPP, current perpendicular to plane) zu messen. Zu Testzwecken werden dazu zunächst Au-Punkte verwendet. Diese werden mittels Elektronenstrahllithographie mit einem Durchmesser von typischerweise 50−100 nm bei einer Höhe von 30 nm und einer Periodizität von 300 nm großflächig als Punktgitter auf einem Au-Film hergestellt. Um diese Punkte zu kontaktieren, wird die Spitze des STM in einen Punkt vorsichtig hineingefahren und Widerstandsmessungen durchgeführt. Bei Verwendung einer Au-Spitze werden beim Herausziehen aus einem Au-Film die Leitwertsprünge beobachtet, wie sie auch bei Bruchkontakten mit dem MCBJ (mechanically controllable break junction) gemessen werden. Ein anschliessendes Scannen zeigt, dass beim Hineinfahren der Spitze der Punkt oberflächlich deformiert wird. Kontrollmessungen zeigen weiterhin, daß der Kontakt ein ohmsches Verhalten besitzt. Allerdings kann der Kontaktwiderstand nur abgeschätzt werden, da eine Zweipunktmessung verwendet wird. Er beträgt ca. 5 Ohm. Die zeitliche Stabilität des Kontaktwiderstands kann im Hochvakuum auf 7 mOhm/min reduziert werden. Damit sollte es möglich sein, Magnetowiderstands-Änderungen von Punktkontakten in CPP-Geometrie zu messen.