Dresden 2003 – wissenschaftliches Programm

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O: Oberflächenphysik

O 24: Postersitzung (Epitaxie und Wachstum, Oxide und Isolatoren, Elektronische Struktur, Oberfl
ächenreaktionen, Adsorption an Oberfl
ächen, Organische Dünnschichten)

O 24.70: Poster

Mittwoch, 26. März 2003, 14:30–17:30, P1

Wachstum von Pyren und Perylen auf Cu(110) — •Kathrin Hänel, Stefanie Gil Girol, Alexander Birkner und Christof Wöll — Lehrstuhl für Physikalische Chemie I, Ruhr Universität Bochum, Universitätstr. 150, 44780 Bochum

Die Adsorption der aromatischen Kohlenwasserstoffe Pyren (C₁₆H₁₀) und Perylen (C₂₀H₁₂) auf Cu(110) wurde mit STM, LEED, XPS und TDS unter UHV-Bedingungen untersucht. Unsere STM-Messungen an Pyren auf Cu(110) zeigen unterschiedlich geordnete Domänen neben ungeordneten Bereichen. Die Präparation von Perylen auf Cu(110) führte zu einer gut geordneten dreidimensionalen Struktur. Neben geordneten Domänen und ungeordneten Bereichen, wie sie für Pyren auftreten, wurden gut geordnete Reihen entlang der [110]-Richtung beobachtet, die bereits von Chen et al. beschrieben wurden [1]. Diese Reihen bilden eine (5×5)-Überstruktur, die in Einklang steht mit unseren LEED-Daten und mit Daten der Heliumatomstreuung von Söhnchen et al. [2]. Unter Verwendung geeigneter Tunnelbedingungen konnte der molekulare Film modifiziert werden, d. h. es war möglich mit der Tunnelspitze einzelne Lagen zu entfernen. Für das Wachstum weniger Monolagen von Perylen auf Cu(110) wird ein Modell vorgeschlagen, das in Einklang steht mit unseren STM-, LEED-, XPS- und TDS-Messungen. [1] Q. Chen, T. Rada, A. McDowall, N. V. Richardson, Chem. Mater. 14, 743 (2002) [2] SYOH 7.2 DPG 2002