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O: Oberflächenphysik
O 33: Nanostrukturen II
O 33.1: Vortrag
Donnerstag, 27. März 2003, 15:00–15:15, FOE/ORG
NanoESCA: Abbildendes XPS-Spektrometer mit Ortsauflösung im Bereich von 100 nm — •D. Funnemann1, P. Bernhard2, M. Escher3, F. Forster4, B. Krömker1, M. Merkel3, S. Schmidt4 und C. Ziethen2 — 1Omicron GmbH — 2AG Schönhense, Univ. Mainz — 3Focus GmbH — 4AG Hüfner u. Reinert, Univ. d. Saarlands
Zur ortsaufgelösten XPS Element-Analyse wurde ein parallel abbildendes Photo-Elektronen-Mikroskop mit schmalbandigem Energiefilter entwickelt. Dieser beinhaltet eine zum Patent angemeldete aberrationkorrigierende Anordnung von zwei elektrostatischen Halbkugel-Analysatoren. Die Energie-Filterung bewirkt eine Reduzierung des chromatischen Fehlers und eine wesentliche Verbesserung des Bildkontrastes und der Ortsauflösung. Das Gerät wurde mit Laborquellen und am Synchrotron charakterisiert. Die Ortsauflösung ist für XPS-Abbildung kleiner als 150nm mit guter Energieauflösung.
Wir zeigen XPS-Spektren aus Probenbereichen unter 1um und energiegefilterte Bilderserien mit sub-um-Auflösung:
-von GaAs/GaAlAs-Strukturen der Bundesanstalt f. Materialprüfung, -von mikrostrukturierten Au/Si und Ag/Ta Proben, -zur Sn Korngrenzendekoration in polykristallinem Aluminium (Al0.98Sn0.02) und -zum Korrosionsverhalten von Co/Cr in Magnetspeicherplatten.
Dieses Projekt wird gefördert vom BMBF unter FKZ 13N7865.