Dresden 2009 – wissenschaftliches Programm

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DS: Fachverband Dünne Schichten

DS 13: Thin Film Metrology for Electronics, Photonics, and Photovoltaics I

DS 13.1: Topical Talk

Dienstag, 24. März 2009, 10:30–11:00, GER 38

Metrologie der Mikro- und Nanostrukturen mittels Rastersondenmikroskopie — •Teodor Gotszalk — ul. Janiszewskiego 11/17; Technische Universitatet zu Wroclaw; 50-372 Wroclaw

Der Fortschritt in der Nanotechnologie ist sowohl durch den Fortschritt in der Fabrikation der Mikro- und Nanostrukturen, wie auch durch die Entwicklung neuer Methoden zu ihrer Charakterisierung stimuliert. Von den neuen Charakterisierungsmethoden erwartet man vor allem hohe Empfindlichkeit, die in vielen Fällen die Beobachtung der quantenmechanischen Effekte in Nanometerskala ermöglichen soll. Im Gegenteil zu den Detektionsmethoden, die nur die qualitative Analyse erlauben, sollten die Messmethoden zusätzlich quantitativ die untersuchenden Phänome beschreiben. In diesem Vortrag werden die Beispiele zu den lokalen Messungen im Nanometerbereich von mechanischen, elektrischen und thermischen Eigenschaften der Metal-, Halbleiter- und biologischen Mikro- und Nanostrukturen mit Hilfe von piezoresistiven Silizium-Mikrosystemen vorgestellt. Die Messungen der Änderung der adsorbierter Masse, der Kraft und der Auslenkung mit der Auflösung von 10 ag, 1 pN und 0,01 nm Kraft, sind mit den hochauflösenden Kalibrierungsmethoden des verwendenten Messsystems verbunden. Diese Kalibrierungsmethoden, zu denen lichtfaseroptische Interferometrie, Untersuchungen des Rauschenverhaltens und der elektrischen Eigenschaften der Mikrosysteme mit Hilfe von modernen zählen, werden zusätzlich in diesem Vortrag vorgestellt.