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P: Fachverband Plasmaphysik

P 17: Poster: Plasma-Wand-Wechselwirkung

P 17.2: Poster

Mittwoch, 1. April 2009, 17:30–19:30, Foyer des IfP

Lokale Deposition kohlenstofffreier SiOx-Schichten mit Hilfe eines anisothermen Plasmajets unter Normaldruckbedingungen — •Jan Schäfer, Rüdiger Foest, Andreas Vogelsang und Antje Quade — Leibniz-Institut für Plasmaforschung und Technologie e.V. Greifswald

Die plasmagestützte Schichtabscheidung siliziumorganischer Schichten weist ein breites Anwendungsspektrum auf. Je nach Ausprägung der chemischen Zusammensetzung der Schichten können die Schichten Kratzschutz, Korrosionsschutz oder Diffusionsbarriere gewährleisten.

Es wird die Abscheidung von kohlenstofffreien, quarz-ähnlichen Schichten mittels eines nichtthermischen Hochfrequenz-Kapillarjets präsentiert, der in offener Umgebungsluft arbeitet. Das Design der Plasmaquelle ist speziell auf eine präzise, lokale Beschichtung ausgerichtet. Zum Zweck der dynamischen Behandlung größerer Flächen lassen sich mehrere gleichartige Module jedoch zu einem Array anordnen. Die verwendete Gasmischung besteht aus Argon, Sauerstoff und geringen Zumischungen von Oktamethylzyklotetrasiloxan.

Im Rahmen einer experimentellen Parameterstudie wird die Wirkung einer Variation des O2-Anteils und der Substrattemperatur auf die atomare Zusammensetzung, die Bindungsverhältnisse und die Oberflächenmorphologie der Schicht betrachtet.

Die Auswertung der Schicht- und Oberflächenanalytik (FTIR, XPS, REM) gestattet die Angabe eines Parameterbereiches, der durch Schichten mit exzellent niedriger Kohlenstoffkonzentration (0,6 % XPS-Atome) und kompakter, glatter Morphologie gekennzeichnet ist.