Greifswald 2009 – wissenschaftliches Programm

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P: Fachverband Plasmaphysik

P 9: Poster: Niedertemperaturplasmen

P 9.1: Poster

Dienstag, 31. März 2009, 17:30–19:30, Foyer des IfP

Analyse der effektiven VUV-/UV-Strahlung zur Sterilisation in einem doppelt induktiv gekoppelten Plasmareaktor — •Benjamin Denis¹, Helmut Halfmann², Nikita Bibinov¹, Peter Awakowicz¹ und Joachim Wunderlich³ — ¹Lehrstuhl für Allgemeine Elektrotechnik und Plasmatechnik, Ruhr-Universität Bochum — ²OSRAM GmbH, Wipperfürth — ³Fraunhofer Institut für Verfahrenstechnik & Verpackungstechnik, Freising

Medizinische Implantate stellen große Herausforderungen an die Sterilisationstechnik. Die Plasmasterilisation ist eine viel versprechende Alternative zu herkömmlichen Sterilisationsmethoden. Mit ihrer Hilfe ist es möglich thermolabile oder biodegradierbare Kunststoffe bei niedrigen Temperaturen zu sterilisieren. Es wird ein doppelt induktiv gekoppelten Plasmareaktor zur Untersuchung der zugrunde liegenden Sterilisationsmechanismen verwendet. Als Mechanismen kommen Strahlung, Radikale und Ionenbeschuss in Frage. In diesem Beitrag wird der Einfluss der Strahlung untersucht. Photonen mit einer Wellenlänge kürzer als 275 nm können C-H und C-C Bindungen aufbrechen. Diese ultraviolette Strahlung kann die DNS oder die Sporenhülle beschädigen. Um den Wellenlängenbereich einzugrenzen werden Versuche mit Kantenfiltern und mit speziellen Gasmischungen durchgeführt. Als Testkeime dienen die Sporen von Bacilus atrophaeus (DSM 2277) und zwei Stämme des Aspergilus niger (DSM 1957 und DSM 1988). Es kann gezeigt werden das B. atrophaeus sensitiv auf den Wellenlängenbereich zwischen 235 und 300 nm reagieren, im Gegensatz dazu sind A. niger Sporen resistent gegen Strahlung oberhalb von 235 nm.