Hannover 2010 – wissenschaftliches Programm

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K: Fachverband Kurzzeitphysik

K 3: EUV - Quellen und deren Anwendungen

K 3.5: Vortrag

Mittwoch, 10. März 2010, 15:15–15:30, F 442

Systemlösungen für die Nutzung der XUV-Strahlung in der Nanotechnologie — •Larissa Juschkin — RWTH Aachen, Lehrstuhl für Technologie Optischer Systeme, Deutschland

Die grundlegenden Eigenschaften der extrem ultravioletten (XUV) und weichen Röntgenstrahlung wie die kurze Wellenlänge sowie die starke Wechselwirkung mit Materie machen sie zu einem aussichtsreichen Kandidat für die zukünftigen Messtechnik- und Nanostrukturierungssysteme, die eine Vielzahl neuer optischer, Analyse- und Produktionsverfahren ermöglichen. Beispiele hierfür sind die Oberflächen- und Dünnschichtcharakterisierung aus den Reflektivitätsmessungen im streifenden Einfall, NEXAFS Untersuchungen chemischer Bindungszustände, XUV- und Röntgenmikroskopie, Defekterkennung aus Streulichtmessungen und Lithographie zur Erzeugung periodischer Nanostrukturen mit hohem Durchsatz. Zeitaufgelöste XUV-Mikroskopie kann für die Untersuchung des dynamischen Verhaltens von Nanostrukturen eingesetzt werden.

Der Vortrag behandelt die Herausforderungen und Erfolge bei der Nutzung von XUV-Strahlung für potenzielle Messtechnik- und Nanostrukturierungssysteme, die in unserer Gruppe realisiert wurden. Der Schwerpunkt liegt auf kompakten und handlichen Laborgeräten basierend auf Entladungsplasmen als Strahlungsquellen. Das Zusammenspiel der Systemkomponenten (Quelle, Optik, Detektor und Probe) und anwendungsorientierte Design-Lösungen werden vorgestellt mit dem Ziel, die verfügbare Strahlung auf möglichst effiziente und kompakte Weise zu nutzen.