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Hannover 2010 – scientific programme

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K: Fachverband Kurzzeitphysik

K 3: EUV - Quellen und deren Anwendungen

Wednesday, March 10, 2010, 14:00–15:30, F 442

14:00 K 3.1 Invited Talk: Vakuum-Ultraviolett (VUV) Emission von flüssigem Argon bei Anregung mit Elektronenstrahlen. — •Thomas Heindl, Thomas Dandl, Alexander Fedenev, Martin Hofmann, Reiner Krücken, Jochen Wieser und Andreas Ulrich
14:30 K 3.2 Direct evaluation of spatio-temporal coherence properties of free electron laser pulses at FLASH — •Sebastian Roling, Rolf Mitzner, Björn Siemer, Michael Wöstmann, Kai Tiedtke, and Helmut Zacharias
14:45 K 3.3 Der Laser induzierte Vakuumfunken als Quelle für die Extrem Ultraviolett Lithographie — •Klaus Bergmann
15:00 K 3.4 Dosisregelungssystem und Ladegerät einer entladungsbasierten 40kHz-XUV-Quelle — •Sven Probst, Jürgen Klein, Stefan Seiwert und Hussein El-Husseini
15:15 K 3.5 Systemlösungen für die Nutzung der XUV-Strahlung in der Nanotechnologie — •Larissa Juschkin
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