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DS: Dünne Schichten
DS 18: Harte Schichten III
DS 18.2: Talk
Tuesday, March 18, 1997, 15:30–15:45, PC 7
Erosion von a–C:H-Schichten in O2, H2O, und O2/H2 Plasmen: Erosionsmessungen, Massenspektrometrie und Oberflächen-analytik — •Bernhard Landkammer, Achim von Keudell und Wolfgang Jacob — Max–Planck–Institut für Plasmaphysik,Boltzmannstr. 2, D–85748 Garching b. München
Die Erosion von wasserstoffhaltigen Kohlenstoffilmen durch O2, H2O, und O2/H2 ECR–(Electron Cyclotron Resonanz)–Plasmen wurde mittels In–situ–Ellipsometrie untersucht. Die Einflüsse der einzelnen Gasmischungen auf die Erosionsrate wurden bei variierten Plasmaparameter wie Ionenenergie, Druck, Verweilzeit, Leistung und Substrattemperatur gemessen. Mit einem Massenspektrometer mit Gegenfeldanalysator konnte die Ionenenergieverteilung für die verschiedenen Gase bestimmt und damit die dominanten Spezies für den Erosionsprozeß gefunden werden. Durch XPS– , TDS– und FTIR–Messungen wurde versucht, Hinweise auf die Bindungsverhältnisse an der Oberfläche der im Plasma behandelten a–C:H–Filme zu finden. Diese wiederum geben genauere Aufschlüsse über den Erosionsmechanismus und damit auf das Entstehen der Erosionsprodukte H2O, CO2 und CO.