Münster 1997 – wissenschaftliches Programm

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O: Oberflächenphysik

O 41: Nanostrukturen

O 41.2: Vortrag

Freitag, 21. März 1997, 11:30–11:45, PC 4

Atomlithographische Erzeugung von Nanostrukturen — •Th. Schulze, U. Drodofsky, J. Stuhler, B. Brezger, T. Pfau und J. Mlynek — Fakultät für Physik, Universität Konstanz, Postfach 5560, D-78434 Konstanz

Großtechnisch angewandte optische Lithographieverfahren stoßen bei Auflösungen unter 100 nm auf eine prinzipielle Grenze. Die Lithographie mit neutralen Atomstrahlen bietet dazu insbesondere beim parallelen Schreiben periodischer Strukturen eine interessante Alternative [1]. Wir stellen unsere Experimente an einem durch Laserkühlverfahren kollimierten Chromstrahl vor, mit dem großflächig periodische Linien und verschiedene zweidimensional periodische Strukturen mit sub 100 nm Auflösung erzeugt werden. Dabei werden verschiedene stehende Lichtfelder als Phasenmasken für die atomare Schwerpunktsbewegung eingesetzt. Die Periodizität der Strukturen beträgt einen Bruchteil der verwendeten Lichtwellenlänge von 425 nm. Die Strukturen können z.B. auf Silizium als Masken für einen Ätzprozess dienen. Wir diskutieren mögliche Anwendungen bei der Erzeugung von Materialien mit einer photonischen Bandlücke.

[1] R. Gupta et al., Appl. Phys. Lett. 67, 1378 (1995)