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VA: Vakuumphysik und Vakuumtechnik

VA 3: Ausgasung, Passivierung

Montag, 17. März 1997, 16:00–17:20, ZH

16:00 VA 3.1 Plasmaimmersions-Ionenimplantation von Stickstoff in Edelstahl zur Modifikation der Gasabgabe — •Michaela Schulz, Bernd Garke, Norbert Schindler, Reinhard Günzel und Christian Edelmann
16:20 VA 3.2 Gasabgabemessungen mit einem reproduzierbar einstellbaren,regelbaren Leitwert — •Volker Hauer, Olaf Dill und Christian Edelmann
16:40 VA 3.3 Untersuchungen zur Wasserstoffabgabe verschiedener Graphitsorten — •Detlef Schleußner, Jörn Becker, Christian Edelmann, Rainer Behrisch und Peter Franzen
17:00 VA 3.4 Room temperature growth and characterisation of SiO2 passivation layers by plasma enhanced evaporation in the UHV — •A. Strass, A. Fischer, W. Hansch, P. Bieringer, A. Neubecker, and I. Eisele
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