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Regensburg 2000 – scientific programme

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DS: Dünne Schichten

DS 10: In-situ-Charakterisierung II

Monday, March 27, 2000, 11:00–12:15, H32

11:00 DS 10.1 Fachvortrag: Ein Ellipsometer mit neuem optischen Design für die Prozeßkontrolle an inline Beschichtungsanlagen — •Georg Dittmar, Uwe Richter und Uwe Wielsch
11:15 DS 10.2 Fachvortrag: Quadrupol-Massenspektrometer in der Beschichtungstechnologie — •Guenter Peter und Norbert Mueller
11:30 DS 10.3 Fachvortrag: Endpunkts-Detektion mittels Quadrupol-Massenspektrometern — •Guenter Peter, Norbert Mueller und Hans Zogg
11:45 DS 10.4 Fachvortrag: In-situ-Partialdruckanalyse bei modernen Halbleiterprozessen — •Christoph Lohe
12:00 DS 10.5 Fachvortrag: UV/Vis-Emissions- und Massenspektrometrie waehrend der Plasmapolymerisation und Schichteigenschaften — •Dieter F. Ihrig, Frank Scheide, Oliver Winkelhake und Oliver Streuber
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