Regensburg 2000 – wissenschaftliches Programm

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DS: Dünne Schichten

DS 5: Laserverfahren II

Montag, 27. März 2000, 14:45–15:15, H31

	14:45	DS 5.1	Fachvortrag: Schichtabscheidung mit Excimerlaserstrahlung für optische Anwendungen — •J. Petereit, J. Gottmann, E.W. Kreutz und R. Poprawe
	15:00	DS 5.2	Fachvortrag: Quantifizierung der Wiederabsputterrate (Sputter-Yield) bei der Laserdeposition im Ultrahochvakuum und in Ar-Gasatmosphäre — •H.-U. Krebs und K. Sturm