Dresden 2003 – wissenschaftliches Programm

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DS: Dünne Schichten

DS 24: Poster

DS 24.13: Poster

Dienstag, 25. März 2003, 14:30–17:00, P2a

Einfluss der Anregungsfrequenz bei der Sputterdeposition auf Morphologie und elektrische Eigenschaften dünner Schichten — •Ralph Träger, Klaus Bethe und Meinhard Schilling — Institut füer elektrische Messtechnik und Grundlagen der Elektrotechnik, TU Braunschweig, Hans-Sommer-Str. 66, D-38106 Braunschweig

Wir untersuchen NiCrAl-Dünnschichten als Beispielsystem für hochresistive SMD-Widerstände, um den Einfluss der verschiedenen Sputterparameter, insbesondere der Frequenz der Anregungsspannung, in Bezug auf die Schichteigenschaften zu klären. Die Experimente haben gezeigt, daß schon geringe Unterschiede der externen Parameter eines Sputterprozesses und der damit verbundenen Vorgänge im Plasma zu drastischen Veränderungen der Schichteigenschaften führen können.

Die Untersuchungen konzentrieren sich auf den Zusammenhang von Prozeßdruck, RF-Spannung, RF-Frequenz, Wirk- und Blindleistung bzw. der Plasmaimpedanz. Außerdem erfolgt eine in-situ-Charakterisierung anhand von Langmuir-Sonden-Messungen. Im Anschluß daran werden die Schichten hinsichtlich der Morphologie, unter Einsatz von Rasterkraftmikroskopie, charakterisiert, und die elektrischen Eigenschaften, wie Flächenwiderstand und Temperaturkoeffizient, bestimmt. Die Auswertung der gewonnenen Ergebnisse erfolgt unter anderen mit statistischen Methoden der Versuchsplanung.