Dresden 2003 – wissenschaftliches Programm
Bereiche | Tage | Auswahl | Suche | Downloads | Hilfe
DS: Dünne Schichten
DS 5: Verfahren zur Schichtherstellung II
Montag, 24. März 2003, 10:15–11:00, GER/38
 |
10:15 | DS 5.1 | Low-temperature Si epitaxy by electron-cyclotron resonance chemical vapor deposition — •Björn Rau, Burkhardt Selle, Ina Sieber, Stefan Gall, and Walther Fuhs |
|
10:30 | DS 5.2 | Thin polycrystalline silicon layers formed by aluminium-induced crystallization — •Jens Schneider, Stefan Gall, Martin Muske und Walther Fuhs |
|
10:45 | DS 5.3 | Unkonventionelle Phasenbildung durch thermisch stimulierte Festkörperreaktionen in Nano-Schichtsystemen — •Dirk C. Meyer, Alexander A. Levin und Peter Paufler |