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Dresden 2003 – scientific programme

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O: Oberflächenphysik

O 16: Oxide und Isolatoren I

Tuesday, March 25, 2003, 11:15–13:15, FOE/ANOR

11:15 O 16.1 In-situ STM investigation of growth, atomic and electronic structure of thin NiO films on Ag(001) at elevated temperatures — •Christian Hagendorf, Karl-Michael Schindler, and Henning Neddermeyer
11:30 O 16.2 Periodische Verzerrung epitaktischer SiO2 Schichten auf Mo(112) — •A. Stierle, C. Tieg, H. Dosch, T. Schröder, J. Giorgi und H.-J. Freund
11:45 O 16.3 Das Wachstum ultradünner amorpher Al2O3 Filme auf CoAl(100) — •Volker Rose und Rene Franchy
12:00 O 16.4 Color center formation and metal adsorption on vicinal MgO films — •C. Tegenkamp, J. Kramer, and H. Pfnür
12:15 O 16.5 Azimuthale Abhängigkeit der autokatalytischen Adsorption: CO an Rutil (1x2)-TiO2(110) — •Uwe Burghaus und Martin Kunat
12:30 O 16.6 Untersuchungen der elektronischen Struktur polykristalliner LiCoO2- und LiNiO2-Proben und -Schichten mittels Photoelektronenspektroskopie — •David Ensling, Qi-Hui Wu, Javier Fernandez-Madrigal, Andreas Thissen und Wolfram Jaegermann
12:45 O 16.7 Die Wechselwirkung von Wasser mit O-ZnO(0001) — •Martin Kunat, Uwe Burghaus und Christof Wöll
13:00 O 16.8 CO oxidation on the O-enriched RuO2(110) Surface at low Temperatures — •Ursula A. Paulus, Yuemin Wang, Peter Geng, and Karl Jacobi
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