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P II.1 |
Comparison of NO concentration and UV emission in a N2/O2 RF discharge. — •Maalolan Ramanujam, Jakob Barz, Michael Mueller, and Herwig Brunner
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P II.2 |
Plasmagestützte Schichtabscheidung mittels bipolarem Substratbiasing — •Evelyn Häberle, Jochen Kopecki, Andreas Schulz, Matthias Walker und Ulrich Stroth
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P II.3 |
Entwicklung einer mikrowellenbasierten Atmosphärendruck-Mikroplasmaquelle — •Christian Langbein, Ulrich Schweitzer, Andreas Schulz, Matthias Walker und Ulrich Stroth
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P II.4 |
Untersuchungen zur Skalierbarkeit eines Mikrowellenplasmabrenners bei Atmosphärendruck von 2,45 GHz auf 915 MHz — •Dennis Kiesler, Martina Leins, Matthias Walker, Andreas Schulz und Ulrich Stroth
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P II.5 |
Entwicklung und Charakterisierung einer Mikrowellen-Plasmaquelle bei Atmosphärendruck — •Martina Leins, Klaus-Martin Baumgärtner, Andreas Schulz, Matthias Walker, Uwe Schumacher und Ulrich Stroth
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11:00 |
P II.6 |
Untersuchung von plasmapolymerisierten Barriereschichten für flexible Dünnschichtsolarzellen mittels In-situ-FTIR — •Jochen Kopecki, Evelyn Häberle, Andreas Schulz, Matthias Walker und Ulrich Stroth
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11:00 |
P II.7 |
Particle-in-Cell simulations of a Double-Plasma Device — •Farah Aziz, Sebastian Enge, and Ulrich Stroth
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11:00 |
P II.8 |
Selbstorganisierte Strukturen in dielektrischen behinderten Glimmentladungen — •Lars Stollenwerk, Hans-Georg Purwins und Ulrich Stroth
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P II.9 |
Langmuir probe measurements in an inductively coupled radio frequency plasma — •Yusuf Celik, Beilei Du, Dirk Luggenhölscher, and Uwe Czarnetzki
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P II.10 |
Numerical Modeling of Electron Heating in the Plasma Boundary Sheath — •Brian G. Heil, Julian Schulze, Thomas Mussenbrock, Ralf Peter Brinkmann, Dirk Luggenhölscher, and Uwe Czarnetzki
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11:00 |
P II.11 |
Electric field reversals in single- and dual-frequency capacitively coupled radio frequency discharges at various pressures — •J Schulze, Z Donko, B Heil, D Luggenhölscher, T Mussenbrock, R P Brinkmann, and U Czarnetzki
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11:00 |
P II.12 |
Investigations on Self-excited Plasma Series Resonance — •Christopher Knier, Julian Schulze, Dirk Luggenhölscher, Kostyantyn Polozhij, and Uwe Czarnetski
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11:00 |
P II.13 |
Phase resolved Thomson scattering on an inductively coupled radio-frequency plasma discharge — •Dragos Liviu Crintea, Dirk Luggenhölscher, and Uwe Czarnetzki
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11:00 |
P II.14 |
Die stoßbestimmte Schicht: Stufenmodell vs. exakte Lösung — •Ralf Peter Brinkmann
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P II.15 |
Electron heating in asymmetric capacitively coupled RF discharges at low pressures — •J Schulze, B Heil, D Luggenhölscher, T Mussenbrock, R P Brinkmann, and U Czarnetzki
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11:00 |
P II.16 |
Anregung von Harmonischen in kapazitiven Hochfrequenzentladungen: Ein räumlich aufgelöstes nichtlineares Modell — •Markus Gebhardt, Dennis Ziegler, Martin Lapke, Mustafa Bayrak, Thomas Mussenbrock und Ralf Peter Brinkmann
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P II.17 |
Nichtlineare Ohmsche und stochastische Heizung in kapazitiven Hochfrequenzentladungen — •Thomas Mussenbrock, Dennis Ziegler, Ralf Peter Brinkmann, Michael A. Lieberman und Allan J. Lichtenberg
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P II.18 |
An influence of the skin effect on plasma impedance in an inductively coupled RF discharge — •Kostyantyn Polozhiy and Dmytro Rafalskyi
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11:00 |
P II.19 |
Dynamics of E to H Mode Transitions in Inductively Coupled Discharges — •Philipp Kempkes, Jan Tenfelde, and Henning Soltwisch
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P II.20 |
A retarding field analyzer for arbitrarily biased substrates in reactive plasmas — •Tim Baloniak and Achim von Keudell
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P II.21 |
Plasma-deposition of low stress a-Si:H/a-C:H multi-layers — •Azadeh Hosseini Badakhshani, Janine Schauer, Benedikt Niermann, and Jörg Winter
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P II.22 |
Pulsed Low Frequency Inductively Coupled Plasma Source — •Christian Teske, Joachim Jacoby, Waldemar Schweizer, and Jörg Wiechula
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P II.23 |
Investigation of an RF ICP — •Jörg Wiechula, Marcus Iberler, Christian Teske, Waldemar Schweizer, and Joachim Jacoby
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P II.24 |
A New Dry Etch Chemistry in Deep Trench Silicon Plasma Etching For Sub-100nm Technologies — •Harald Richter, Siegfried Günther, Stephan Wege, Sven Barth, Ioan Costina, Günter Weidner, Steffen Marschmeyer, and Heike Silz
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P II.25 |
Population Inversion of Excited Hydrogen Atoms in a Recombining Hydrogen Plasma Jet — •Onno Gabriel, Suleiman Elhamali, Jeroen van den Dungen, Daan Schram, and Richard Engeln
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11:00 |
P II.26 |
Simulationen zur Entstehung und Extraktion negativer Wasserstoffionen an HF-Ionenquellen für ITER — •Raphael Gutser, Dirk Wünderlich, Ursel Fantz und NNBI -Team
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P II.27 |
Untersuchungen an HF-angeregten Metallhalogenidplasmen — •Stefan Briefi, Ursel Fantz, Patrick Starke, Stephan Dietrich und Josef Griesbauer
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P II.28 |
Plasmaparameterprofile in einer Quelle für negative Ionen — •Stephan Dietrich, Sina Christ-Koch und Ursel Fantz
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