Kiel 2011 – wissenschaftliches Programm

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P: Fachverband Plasmaphysik

P 9: Poster: Diagnostik technischer Plasmen

P 9.3: Poster

Dienstag, 29. März 2011, 17:00–19:00, Foyer

Elektrische Messungen an partikelbildenden reaktiven Plasmen — •Patrick Sadler und Holger Kersten — Institut für Experimentelle und Angewandte Physik, Christian-Albrechts-Universität zu Kiel, D-24098 Kiel

Reaktive Plasmen enthalten chemisch reaktive Spezies, die ein wichtiges Werkzeug für technologische Anwendungen z.B. in Ätz- und Beschichtungsprozessen darstellen. In solchen Prozessplasmen kann es durch komplexe plasmachemische Vorgänge zur Bildung von makroskopischen Partikeln kommen, die einen Durchmesser bis zu einigen Mikrometern aufweisen. Unter bestimmten Bedingungen zeigt sich speziell in acetylenhaltigen Plasmen eine periodische Partikelbildung. Diese Zyklen können mit Hilfe elektrischer Messungen an der kapazitiven HF-Entladung sichtbar gemacht werden. Dabei ergeben sich mit optischen Messungen korrelierte Variationen in HF-Spannung, Self-Bias, Phasenwinkel etc., anhand derer sich die verschiedenen Regime der Partikelbildung untersuchen lassen. Die Impedanzanalyse ergibt eine Abnahme des ohmschen Widerstandes sowie eine Zunahme der Reaktanz während der Partikelbildung. Dieses Ergebnis wird unterstützt durch SEERS-Messungen der effektiven Elektronenstoßrate im Plasma, welche ebenfalls während der Partikelbildung abnimmt.