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Stuttgart 2012 – scientific programme

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P: Fachverband Plasmaphysik

P 14: Poster: Plasmatechnologie

Wednesday, March 14, 2012, 16:30–19:00, Poster.III

16:30 P 14.1 Variation of the cluster size distribution with target aging measured in planar DC magnetron sputtering source — •Marina Ganeva, Andrei V. Pipa, and Rainer Hippler
16:30 P 14.2 Untersuchung zur Abscheidung von Siliziumoxid- und Zinkoxidschichten mittels MW-PECVD — •Stefan Merli, Moritz Scholze, Andreas Schulz, Matthias Walker und Ulrich Stroth
16:30 P 14.3 Maßgeschneiderte Ionen-Energie Verteilungsfunktionen online berechnen für Jedermann — •Martin Predki, Mohammed Shihab, Alexander Wollny, Thomas Mussenbrock und Ralf Peter Brinkmann
16:30 P 14.4 Spektroskopische Charakterisierung eines Mikrowellen-Mikroplasmabrenners für die lokale Oberflächenbehandlung — •Ingrid Weinrauch, Martina Leins, Andreas Schulz, Matthias Walker und Ulrich Stroth
16:30 P 14.5 Vergleichende Untersuchung zur Abscheidung quarzähnlicher Schichtsysteme aus Siloxanen in einem ECR-Plasma — •Sandra Gaiser, Andreas Schulz, Matthias Walker und Ulrich Stroth
16:30 P 14.6 Spektroskopische Temperaturbestimmung an einem atmosphärischen Mikrowellenplasma — •Martin Bauer, Martina Leins, Andreas Schulz, Matthias Walker und Ulrich Stroth
16:30 P 14.7 Mikrowellengestütze Abscheidung von dünnen amorphen Siliziumschichten aus einem Silan-Wasserstoff-Plasma — •Patric Büchele, Jochen Kopecki, Evelyn Ramisch, Andreas Schulz, Matthias Walker und Ulrich Stroth
16:30 P 14.8 Nonlinear dynamics of sheath voltage characteristics for arbitrary waveforms in capacitive discharges — •Abd Elfattah Elgendy, Mohammed Shihab, Denis Eremin, Thomas Mussenbrock, and Ralf Peter Brinkmann
16:30 P 14.9 Plasma etch challenges for technological fabrication of silicon photonic components — •Harald Richter, Mirko Fraschke, René Eisermann, Steffen Marschmeyer, David Stolarek, Katrin Schulz, Lars Zimmermann, and Bernd Tillack
16:30 P 14.10 Optische Charakterisierung eines Mikrowellenplasmabrenners bei 915 MHz — •Jochen Kopecki, Andreas Schulz, Matthias Walker und Ulrich Stroth
16:30 P 14.11 Cross-linking of polydimethylsiloxane thin films in hydrogen CCRF plasma — •Vladimir Danilov, Hans-Erich Wagner, and Jürgen Meichsner
16:30 P 14.12 Plasma polymerized ethylenediamine: thin film characterisation and long-time stability for adhesion of human osteoblastic cells — •Holger Testrich, Henrike Rebl, Birgit Finke, Barbara Nebe, and Jürgen Meichsner
16:30 P 14.13 Plasma-Technologie-Grid: Serviceplattform für Wissenschaft und IndustrieA. Spille-Kohoff, F. Sigeneger, A. Pflug, R. P. Brinkmann, T. Harder und •D. Loffhagen
16:30 P 14.14 Simulation of chemical processes for the deposition of SiOxCy and SiOx films produced by means of atmospheric pressure microplasma jet — •Katja Rügner, Rüdiger Reuter, Dirk Ellerweg, Teresa de los Arcos, Achim von Keudell, and Jan Benedikt
16:30 P 14.15 Teilchentransport und Schichtbildung mittels eines rf-angeregten Plasma-Jets — •F. Sigeneger, J. Schäfer, R. Foest, D. Loffhagen und K.-D. Weltmann
16:30 P 14.16 Interface reactions of plasma polymerized ethylenediamine thin films on metallic substrates relevant for biomedical applications — •Holger Testrich, Vítězslav Stranak, Rainer Hippler, and Jürgen Meichsner
16:30 P 14.17 Plasmaregeneration mineralischer Adsorbentien zur Formaldehydabscheidung aus AbgasenKatja Saulich, Siegfried Müller und •Joachim Schomburg
16:30 P 14.18 Bestimmung der optischen Eigenschaften von quarzartigen Hochrate-Plasmapolymerschichten — •Moritz Scholze, Stefan Merli, Andreas Schulz, Matthias Walker und Ulrich Stroth
16:30 P 14.19 Untersuchung der Heißwiederzündung Hochdruck-Gasentladungslampen — •Thomas Höbing, Andre Bergner, Cornelia Ruhrmann, Peter Awakowicz und Jürgen Mentel
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