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Kiel 2011 – wissenschaftliches Programm

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P: Fachverband Plasmaphysik

P 12: Plasmatechnologie I

Mittwoch, 30. März 2011, 10:30–12:30, HS H

10:30 P 12.1 Hauptvortrag: Modellierung eines Radio-Frequenz Plasmabrückenneutralisators — •Frank Scholze, Michael Tartz und Horst Neumann
11:00 P 12.2 Formation of nanocomposites by cluster deposition and plasma polymerization — •Tilo Peter, Vladimir Zaporojtchenko, Stefan Rehders, Thomas Strunskus, Sven Bornholdt, Holger Kersten, and Franz Faupel
11:15 P 12.3 Hydrophilic finishing of LDPE films using plasma treatment — •Dieter Ihrig, Jens Eggemann, Richard Schuhmacher, and Michael Licht
11:30 P 12.4 Modification of polydimethylsiloxane thin films in H2 CCRF plasma studied by IR reflection absorption spectroscopy — •Vladimir Danilov, Hans-Erich Wagner, and Jürgen Meichsner
11:45 P 12.5 Pulse magnetron sputtering of oxide films for mechanical, biomedical and optical applications — •Heidrun Klostermann
12:00 P 12.6 Ar als Sonde für die Untersuchung struktureller Eigenschaften dünner Schichten mittels XPS — •Atena Rastgoo Lahrood, Marina Prenzel, Teresa de los Arcos und Jörg Winter
12:15 P 12.7 Mechanismen des Schichtwachstums - Untersuchung mittels Monte-Carlo Simulationen — •Evelyn Häberle, Andreas Mutzke, Ralf Schneider, Andreas Schulz, Matthias Walker und Ulrich Stroth
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