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Jena 2013 – wissenschaftliches Programm

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SYOS: Symposium Plasma und Optische Schichten

SYOS 3: Plasma und Optische Technologien III

Dienstag, 26. Februar 2013, 16:30–17:30, HS 4

16:30 SYOS 3.1 Hauptvortrag: Design von amorphen optischen Schutzschichten mittels Multiskalenmodellierung — •Thomas Frauenheim
17:00 SYOS 3.2 Thin film deposition on flat surface using atmospheric pressure plasma source: influence of C:H ratio on film properties — •Ramasamy Pothiraja, Max Engelhardt, Björn Offerhaus, Nikita Bibinov, Jan Perne, and Peter Awakowicz
17:15 SYOS 3.3 Reactive co-sputtering processes in Ar:H2S and Ar:H2Se to deposit chalcopyrite absorber layers for thin film solar cells — •Jonas Krause, Man Nie, Karsten Harbauer, and Klaus Ellmer
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