Dresden 2003 –
wissenschaftliches Programm
O 16: Oxide und Isolatoren I
Dienstag, 25. März 2003, 11:15–13:15, FOE/ANOR
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11:15 |
O 16.1 |
In-situ STM investigation of growth, atomic and electronic structure of thin NiO films on Ag(001) at elevated temperatures — •Christian Hagendorf, Karl-Michael Schindler, and Henning Neddermeyer
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11:30 |
O 16.2 |
Periodische Verzerrung epitaktischer SiO2 Schichten auf Mo(112) — •A. Stierle, C. Tieg, H. Dosch, T. Schröder, J. Giorgi und H.-J. Freund
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11:45 |
O 16.3 |
Das Wachstum ultradünner amorpher Al2O3 Filme auf CoAl(100) — •Volker Rose und Rene Franchy
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12:00 |
O 16.4 |
Color center formation and metal adsorption on vicinal MgO films — •C. Tegenkamp, J. Kramer, and H. Pfnür
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12:15 |
O 16.5 |
Azimuthale Abhängigkeit der autokatalytischen Adsorption: CO an Rutil (1x2)-TiO2(110) — •Uwe Burghaus und Martin Kunat
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12:30 |
O 16.6 |
Untersuchungen der elektronischen Struktur polykristalliner LiCoO2- und LiNiO2-Proben und -Schichten mittels Photoelektronenspektroskopie — •David Ensling, Qi-Hui Wu, Javier Fernandez-Madrigal, Andreas Thissen und Wolfram Jaegermann
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12:45 |
O 16.7 |
Die Wechselwirkung von Wasser mit O-ZnO(0001) — •Martin Kunat, Uwe Burghaus und Christof Wöll
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13:00 |
O 16.8 |
CO oxidation on the O-enriched RuO2(110) Surface at low Temperatures — •Ursula A. Paulus, Yuemin Wang, Peter Geng, and Karl Jacobi
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