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Kiel 2011 – scientific programme

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P: Fachverband Plasmaphysik

P 16: Poster: Niedertemperaturplasmen

Wednesday, March 30, 2011, 16:30–18:30, Foyer

16:30 P 16.1 RF field distribution in a discharge with a magnetic X-point — •Tsanko Tsankov and Uwe Czarnetzki
16:30 P 16.2 The Electrical Asymmetry Effect in oxygen discharges — •Edmund Schüngel, Quanzhi Zhuang, Shinya Iwashita, Julian Schulze, Jiang Wei, Lu-Jing Hou, You-Nian Wang, and Uwe Czarnetzki
16:30 P 16.3 Messung und Modellierung von Ionendichten in HF-angeregten Wasserstoff- und Deuteriumplasmen — •David Ertle, Dirk Wünderlich und Ursel Fantz
16:30 P 16.4 Bestimmung der Plasmaparameter von Niederdruckentladungen mit InBr mittels optischer Diagnostikmethoden — •Stefan Briefi und Ursel Fantz
16:30 P 16.5 Einfluss eines magnetischen Filterfeldes auf die Plasmahomogenität in großflächigen Ionenquellen — •Benjamin Ruf, Dirk Wünderlich, Loïc Schiesko, Ursel Fantz und NNBI- Team
16:30 P 16.6 Experimentelle Untersuchungen zur Plasmadynamik am magnetischen Nullpunkt — •Adrian von Stechow, Olaf Grulke und Thomas Klinger
16:30 P 16.7 Raumzeitliche Untersuchungen von Alfvénwellen mittels eines Ḃ-Sondenarrays — •Falk Braunmüller, Olaf Grulke und Thomas Klinger
16:30 P 16.8 Kinetic damping of shear Alfvén waves — •Thomas Windisch, Olaf Grulke, and Thomas Klinger
16:30 P 16.9 Ion acoustic wave dispersion measurement using Laser Induced Fluorescence. — •Damian Niemczyk, Olaf Grulke, and Thomas Klinger
16:30 P 16.10 Experimentelle Untersuchungen der Ionenkinetik um sphärische Objekte in magnetisierten Plasmen — •Jakob Brunner, Olaf Grulke und Thomas Klinger
16:30 P 16.11 Experimental Device for Magnetic Reconnection Studies — •Hannes Bohlin, Olaf Grulke, and Thomas Klinger
16:30 P 16.12 Investigation of the spatial, spectral and temporal Development of an intermittent negative DC Corona Discharge — •Torsten Gerling, René Bussiahn, Tomas Hoder, Eckhard Kindel, Klaus-Dieter Weltmann, and Ronny Brandenburg
16:30 P 16.13 Eine kontinuierlich arbeitende Sonde zur Messung des Energieeinstromes bei plasmatechnologischen Prozessen — •Ruben Wiese und Holger Kersten
16:30 P 16.14 CC-RF discharge in CF4/H2: Simulation and experiment — •Gunnar Stoppa, Sergey Stepanov, Ralf Schneider, and Jürgen Meichsner
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